《SEMICON Taiwan 2025》銳澤亮相兩大創新集塵解決方案 新式粉塵設備送樣中

高科技廠房氣體供應系統解決方案領導廠商銳澤(7703)於9月10日至9月12日參加一年一度的 SEMICON Taiwan 2025 國際半導體展，展出環保高效能的「肘管集塵裝置ECD（Elbow Capture Device）」與「粉塵捕捉器PCD（Powder Capture Device）」，專為應對半導體製造Sub-Fab端長期存在的粉塵堆積與管道堵塞問題而生，有望大幅提升製程良率、降低非預期停機風險，並顯著優化營運成本，為全球半導體產業在追求更高效率、更低成本及更精密製程的道路上，注入強勁的創新動能，助力創造銳澤更為有利市場開拓之競爭優勢，目前公司仍積極與客戶進行新式粉塵設備送樣階段，預估有助於增添未來良好在手訂單表現。

隨著全球半導體晶圓廠、記憶體等持續擴產，先進製程技術演進對於設備與服務日益嚴謹與規格大幅提升等趨勢明確，銳澤因應此趨勢推出「肘管集塵裝置ECD（Elbow Capture Device）」，巧妙設計於Dry pump出口處，透過獨特的位移式換管機制，結合集塵與清潔功能，並可在無需停機的情況下進行管件更換與清潔，徹底顛覆了傳統清管模式，不僅大幅縮短了清管所需的非生產時間，更以機械方式清除肘管粉塵，完全不需耗費水與氣體資源，大幅降低了水電及廢氣處理成本，為半導體製造商帶來兼具效能與經濟效益的解決方案。

銳澤亦推出高效能的「粉塵捕捉器PCD（Powder Capture Device）」，旨在解決SubFab端管道粉塵堵塞導致的無預警當機問題，以及現有灑水式Local Scrubber對於先進製程中PM2.5以下微細粉塵去除效率不佳的挑戰，隨著半導體製程線寬不斷縮小，對微粒控制的要求日益嚴苛，傳統的粉塵處理方式已難以滿足先進製程的需求，且銳澤的粉塵捕捉器採用了創新的「主動式氣旋分離」技術，能有效捕捉粉塵，避免其堆積於管壁，從根本上解決粉塵堵塞的難題。

展望未來，隨著半導體與記憶體客戶新廠擴建計畫持續進行，銳澤仍戮力擴大氣體二次配工程、氣體供應主系統與Turnkey統包接案，並深化既有知名半導體晶圓廠、記憶體廠客戶業務合作，拓展面板、化工等領域接單，以增加銳澤服務領域廣度，此外，銳澤持續專注於研發更環保和高效的產品，並整合氣體製程上下游資源，積極開展日本、新加坡與美國市場等海外佈局，建立國際化人才發展等三箭齊發策略，創造未來營運正面效果挹注。