瑞宏新技打造完整CDU解決方案版圖 助攻AI資料中心邁向高密度液冷時代

隨著 AI Factory、大規模 AI 訓練叢集及高效能運算（HPC）環境持續推升機櫃功耗密度，液冷技術正快速成為新世代 AI 基礎設施的重要關鍵。專注於液冷基礎設施設計與製造的瑞宏新技（Rayonnant Technology），宣布推出完整 Coolant Distribution Unit（CDU）產品組合，涵蓋 Liquid-to-Air（L2A）Sidecar、In-Rack 及 In-Row Liquid-to-Liquid（L2L）CDU 解決方案，協助企業因應 AI 時代日益提升的散熱需求，同時兼顧部署彈性、營運可靠性與未來擴充能力。

隨著 AI 應用逐步從概念驗證與試點專案走向大規模商業化部署，資料中心的基礎設施需求已不再僅聚焦於運算效能。機櫃功耗持續攀升，使冷卻系統的重要性日益提高，散熱能力已成為影響 AI 環境穩定性與營運效率的重要因素。

瑞宏新技表示：「AI 基礎設施的競爭力已不再只取決於運算效能。隨著機櫃功率密度持續提升，企業必須從運算、供電與散熱三大面向進行整體規劃。冷卻基礎設施的部署效率、可管理性與維運能力，已成為影響 AI 環境擴充性與可靠性的關鍵。」

針對 AI 環境全年無休的運作需求，瑞宏 CDU 產品組合採用以維護便利性為核心的設計架構，具備熱插拔備援幫浦、不中斷維護能力及標準化管理介面整合等功能，可有效降低維運風險，並減少關鍵業務環境中的服務中斷。

針對超大規模資料中心（Hyperscale）、雲端服務供應商（CSP）及大型 AI 叢集應用，瑞宏提供 In-Rack 與 In-Row CDU 解決方案，支援不同規模的液冷架構部署需求。而對於希望導入液冷技術、但不具備冷凍水基礎設施的企業與研究機構，瑞宏 C50 Liquid-to-Air Sidecar CDU 則提供更具彈性的選擇。

C50 採用自成一體的液對氣（Liquid-to-Air）設計，最高可支援 50kW 散熱能力，無需大幅改造現有機房設施或建置冷凍水系統，即可快速導入液冷架構，降低企業採用液冷技術的門檻並加速 AI 基礎設施部署。

目前，瑞宏 CDU 產品組合已涵蓋從 Sidecar 到多百萬瓦等級 In-Row 液冷平台，協助客戶從企業級 AI 專案一路擴展至大型 AI Factory 部署需求。

瑞宏新技進一步表示：「隨著 AI 基礎設施持續演進，散熱系統正逐漸成為整體架構的重要組成。我們致力於提供兼具可靠性、彈性與擴充能力的液冷平台，協助客戶更順利地導入液冷技術，打造符合未來需求的 AI 基礎設施。」

作為仁寶集團旗下子公司，瑞宏新技結合液冷工程研發能力與量產製造經驗，持續投入新世代液冷技術發展，協助客戶建構高效能、高可靠性的 AI 基礎設施。